日本学術会議第15回公開界面シンポジウムが下記のとおり開催されます。
皆様の参加をお待ちしております。
日本学術会議第15回公開界面シンポジウム
ナノテクによる水と材料界面の新機能創製
- 超撥水・超滑水・超親水 –
日 時 平成20年10月29日（水）
会 場 日本学術会議講堂
（東京都港区六本木7-22-34 地下鉄千代田線乃木坂駅下車1分）
主 催 日本学術会議 材料工学委員会
界面科学技術機構
共 催 日本工学アカデミー、未踏科学技術協会
後 援 文部科学省、経済産業省、国土交通省、環境省（予定）
日本経済団体連合会、経済同友会、日本商工会議所、朝日新聞社、毎日新聞社
日本経済新聞社、読売新聞社（予定）
協 賛 日本学術会議関連59学協会（予定）
プログラム
開 会 10:50 橋本和仁 (実行委員長)
講 演
⑴ 11:10「テクスチャー表面上での濡れと2次元バブルの動力学」
奥村 剛（お茶の水大学理学部物理学科教授）
⑵ 13:00「撥水表面における水滴転落機構」
中島 章（東京工業大学工学部准教授）
⑶ 13:50「CNTコーティング材料を用いる超撥水材料」
Dr. Huan Liu（中国科学院、東京大学先端
科学技術研究センター研究員
⑷ 14:40「超親水−超撥水可逆変換材料」
入江 寛（東京大学工学系研究科講師））
⑸ 15:50「超滑水材料の設計と作成」
渡辺俊也(東京大学先端科学技術研究センター教授）
⑹ 16:40「CVD法による超撥水表面の形成」
高井 治（名古屋大学大学院工学研究科教授）
閉 会 17:30 村瀬平八（実行副委員長）
参 加 費 無料、要旨集代 3000円（当日）、懇親会 3000円（希望者、当日）
申込方法 郵便、FAXまたはe-mailにて下記にお申し込み下さい。
申込み先 〒100-0005 東京都千代田区丸の内1-1-3, AIGビル 界面科学技術機構
日本学術会議界面シンポジウム係
TEL&FAX: 0463 (61) 6286、 E-mail: iist@jasmine.ocn.ne.jp